Non-reactive metal/semiconductor interfaces: a combined AES, AFM andPAC study

  1. Krausch, G.
  2. Colchero, J.
  3. Detzel, T.
  4. Fink, R.
  5. Luckscheiter, B.
  6. Wöhrmann, U.
  7. Schatz, G.
Revista:
Hyperfine Interactions

ISSN: 0304-3834,  1572-9540

Ano de publicación: 1993

Volume: 78

Número: 1-4

Páxinas: 295-301

Tipo: Artigo

DOI: 10.1007/BF00568151 GOOGLE SCHOLAR
Fonte de datos: Scopus